发明名称 过曝拍摄方法及装置
摘要 本发明公开了一种过曝拍摄方法,该方法包括:以预设的过曝拍摄参数,拍摄包含目标物的过曝光图片;从所述过曝光图片中获取目标物的图像数据;以预设标准曝光图片为背景,根据获取的目标物的图像数据,生成合成图片。本发明还公开了一种过曝拍摄装置。本发明可实现仅需拍摄一张照片即可拍摄出目标物清晰且目标物凸显于背景的图片,不需长时间曝光拍摄,快速且高效。
申请公布号 CN104104886B 申请公布日期 2016.07.06
申请号 CN201410356986.6 申请日期 2014.07.24
申请人 努比亚技术有限公司 发明人 刘林汶;崔小辉;苗雷;里强
分类号 H04N5/235(2006.01)I 主分类号 H04N5/235(2006.01)I
代理机构 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人 胡海国
主权项 一种过曝拍摄方法,应用于手机,其特征在于,所述过曝拍摄方法包括以下步骤:以预设的过曝拍摄参数,拍摄包含目标物的过曝光图片;获取所述过曝光图片中各像素点的像素点参数;确定获取的所述像素点参数中满足预设条件的像素点为目标物的像素点,获取所述目标物的像素点的位置信息,得到所述目标物的图像数据;将预设标准曝光图片中与所述目标物的像素点的位置信息对应的像素点替换为所述目标物的像素点,生成一张合成图片;所述目标物为下列之一:星星、月亮、闪电;根据环境的亮度自动配置曝光值,以得到所述过曝光图片。
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