发明名称 高电子迁移率晶体管
摘要 本发明提供了一种高电子迁移率晶体管,形成于一半导体衬底表面,所述半导体表面设置有异质结层,所述异质结层内部极化而产生二维电子气,所述异质结层的表面具有源电极、漏电极和栅电极以构成高电子迁移率晶体管,所述半导体衬底中包括一辅助耗尽层,所述辅助耗尽层由P型半导体层和N型半导体层沿着平行于衬底表面的方向交替堆叠构成。本发明的优点在于,通过在半导体衬底中设置由P型半导体层和N型半导体层交替堆叠构成的辅助耗尽层,使得器件工作时耗尽区扩展到更大的区域,避免半导体衬底提前击穿,整体提高器件耐压能力。
申请公布号 CN103745989B 申请公布日期 2016.07.06
申请号 CN201310745064.X 申请日期 2013.12.31
申请人 上海新傲科技股份有限公司 发明人 魏星;王中健;狄增峰;方子韦
分类号 H01L29/778(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I 主分类号 H01L29/778(2006.01)I
代理机构 上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 代理人 孙佳胤;翟羽
主权项 一种高电子迁移率晶体管,形成于一半导体衬底表面,所述半导体衬底表面设置有异质结层,所述异质结层内部极化而产生二维电子气,所述异质结的表面具有源电极、漏电极和栅电极以构成高电子迁移率晶体管,其特征在于,所述半导体衬底包括一辅助耗尽层,所述辅助耗尽层由P型半导体层和N型半导体层沿着平行于衬底表面的方向交替堆叠构成,所述P型半导体层与所述N型半导体层的材料相同,且所述P型半导体层与所述N型半导体层中的一个与所述半导体衬底的导电类型相同。
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