发明名称 |
高电子迁移率晶体管 |
摘要 |
本发明提供了一种高电子迁移率晶体管,形成于一半导体衬底表面,所述半导体表面设置有异质结层,所述异质结层内部极化而产生二维电子气,所述异质结层的表面具有源电极、漏电极和栅电极以构成高电子迁移率晶体管,所述半导体衬底中包括一辅助耗尽层,所述辅助耗尽层由P型半导体层和N型半导体层沿着平行于衬底表面的方向交替堆叠构成。本发明的优点在于,通过在半导体衬底中设置由P型半导体层和N型半导体层交替堆叠构成的辅助耗尽层,使得器件工作时耗尽区扩展到更大的区域,避免半导体衬底提前击穿,整体提高器件耐压能力。 |
申请公布号 |
CN103745989B |
申请公布日期 |
2016.07.06 |
申请号 |
CN201310745064.X |
申请日期 |
2013.12.31 |
申请人 |
上海新傲科技股份有限公司 |
发明人 |
魏星;王中健;狄增峰;方子韦 |
分类号 |
H01L29/778(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/778(2006.01)I |
代理机构 |
上海翼胜专利商标事务所(普通合伙) 31218 |
代理人 |
孙佳胤;翟羽 |
主权项 |
一种高电子迁移率晶体管,形成于一半导体衬底表面,所述半导体衬底表面设置有异质结层,所述异质结层内部极化而产生二维电子气,所述异质结的表面具有源电极、漏电极和栅电极以构成高电子迁移率晶体管,其特征在于,所述半导体衬底包括一辅助耗尽层,所述辅助耗尽层由P型半导体层和N型半导体层沿着平行于衬底表面的方向交替堆叠构成,所述P型半导体层与所述N型半导体层的材料相同,且所述P型半导体层与所述N型半导体层中的一个与所述半导体衬底的导电类型相同。 |
地址 |
201821 上海市嘉定区普惠路200号 |