发明名称 一种基于水淬渣处理电镀废水中铜离子的新型设备
摘要 一种基于水淬渣处理电镀废水中铜离子的新型设备包括铜离子污水处理槽和水淬渣液泵入系统;所述铜离子污水处理槽内部设置有隔断结构,所述隔断结构将铜离子污水处理槽分隔成反应槽和沉淀槽,反应槽内的液体单向流入沉淀槽内经沉淀后实现中水回收。本实用新型所述技术方案利用水淬渣表面粗糙多孔、质地轻脆、容易破碎且廉价及无二次污染的特点,实现了对铜离子的有效去除,避免了传统工艺存在污水处理成本高的缺陷;所述的新型设备具有建造容易、维护方便且污水处理成本低的特点。
申请公布号 CN205367792U 申请公布日期 2016.07.06
申请号 CN201620062497.4 申请日期 2016.01.22
申请人 李国会;毛邦树 发明人 李国会;毛邦树
分类号 C02F1/28(2006.01)I;C02F103/16(2006.01)N;C02F101/20(2006.01)N 主分类号 C02F1/28(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种基于水淬渣处理电镀废水中铜离子的新型设备,其特征在于,所述设备包括铜离子污水处理槽和水淬渣液泵入系统;所述铜离子污水处理槽为一柱体结构,所述柱体结构上半部分为圆柱状,下半部分为圆锥状,且在圆锥顶端设有排渣阀门;所述铜离子污水处理槽内部设置有隔断结构,所述隔断结构将铜离子污水处理槽分隔成反应槽和沉淀槽,所述隔断结构与铜离子污水处理槽槽壁之间的空间为沉淀槽,所述隔断结构内部的空间为反应槽;所述隔断结构包括圆柱桶及圆锥底,所述圆锥底的顶端设置有排渣阀门,所述圆柱桶与圆锥底的接触处设置有单向扰流片,使所述反应槽内的液体单向流入沉淀槽;所述铜离子污水处理槽正中心处设置有回流管,所述回流管内部设置有回流给水泵,使反应槽底部溶液回流到反应槽顶端;所述铜离子污水处理槽顶端外侧环绕设置有清水收集槽;所述水淬渣液泵入系统包括水淬渣供给槽、水淬渣液配置箱、水淬渣液供给泵、喷头,所述水淬渣供给槽经管道与水淬渣液配置箱连接,所述水淬渣液配置箱经管道依次连接水淬渣液供给泵和喷头,所述铜离子污水处理槽的排渣阀门与隔断结构上的排渣阀门处于同一垂直线上。
地址 066102 河北省秦皇岛市北戴河区戴河镇金港大道8号环境工程系