| 发明名称 | 图案化衬底及光电半导体元件 | ||
| 摘要 | 一种图案化衬底包括衬底、微结构以及纳米结构。衬底具有表面，微结构配置于衬底的表面。纳米结构形成于衬底的表面或微结构上。其中，纳米结构包含纳米凸起部或纳米凹陷部。本发明还公开一种具有该图案化衬底的光电半导体元件。 | ||
| 申请公布号 | CN105742440A | 申请公布日期 | 2016.07.06 |
| 申请号 | CN201511016860.5 | 申请日期 | 2015.12.30 |
| 申请人 | 嘉德晶光电股份有限公司 | 发明人 | 邱正宇;李俊亿;陈俊宏 |
| 分类号 | H01L33/22(2010.01)I;H01L51/50(2006.01)I;H01L31/0236(2006.01)I | 主分类号 | H01L33/22(2010.01)I |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人 | 徐东升;赵蓉民 |
| 主权项 | 一种图案化衬底，包括：衬底，具有表面；微结构，配置于该衬底的该表面；以及纳米结构，形成于该衬底的该表面或该微结构上，其中，该纳米结构包含纳米凸起部或纳米凹陷部。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园市中坜区北园路22号 | ||