发明名称 |
一种正装LED发光二极管及其制作工艺 |
摘要 |
一种正装LED发光二极管及其制作工艺,涉及LED发光二极管技术领域。在外延层上图形化地刻蚀去除各元胞的P‑GaN层和量子阱层部分区域,直至暴露出N‑GaN层;在外延片表面利用溅射法蒸镀透明导电材料,通过光刻工艺,采用化学蚀刻方法,仅保留各元胞的P‑GaN层上的透明导电材料;在相邻的两个元胞中的一个元胞的透明导电层上制作P电极,在另一个元胞的透明导电层、P‑GaN层和量子阱层外包裹式制作N电极,N电极的下端连接在N‑GaN层上。本发明保留了N电极下方的部分P‑GaN及量子阱层,本发明工艺简单,将原本需要全部刻蚀掉的P‑GaN和MQW保留一部分,减少了ICP刻蚀完后的黑点现象的发生及良率的提升。 |
申请公布号 |
CN105742421A |
申请公布日期 |
2016.07.06 |
申请号 |
CN201610253384.7 |
申请日期 |
2016.04.22 |
申请人 |
厦门乾照光电股份有限公司 |
发明人 |
蔡立鹤;张永;陈凯轩;李俊贤;刘英策;陈亮;魏振东;吴奇隆;周弘毅;邬新根;黄新茂 |
分类号 |
H01L33/00(2010.01)I;H01L33/04(2010.01)I;H01L33/42(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/00(2010.01)I |
代理机构 |
扬州市锦江专利事务所 32106 |
代理人 |
江平 |
主权项 |
一种正装LED发光二极管,在衬底的同一侧包括依次设置的N‑GaN层、量子阱层、P‑GaN层和透明导电层,在透明导电层上设置P电极,在N‑GaN层上连接N电极,其特征在于在N电极与N‑GaN层之间包裹式设置透明导电层、P‑GaN层和量子阱层。 |
地址 |
361000 福建省厦门市火炬(翔安)产业区翔岳路19号 |