真空镀膜装置及其真空镀膜方法

摘要

本发明公开了一种真空镀膜装置及其真空镀膜方法，用于玻璃基片的真空镀膜，该装置包括小腔体、蒸发管道、真空泵、晶振检测仪、安装有基片传输机构的主腔体，及安装有线性蒸发源的副腔体，主腔体位于副腔体上方并通过一可开闭的挡板隔开，小腔体位于主腔体上方并通过一阀门隔开，蒸发管道的入口与线性蒸发源相接触，出口穿过挡板和主腔体朝向并临近阀门；晶振测试仪包括晶振片和检测机构，晶振片安装在小腔体内并位于蒸发管道出口的上方，检测机构测量晶振片的频率变化并计算出接近实际镀膜厚度的测量镀膜厚度和相应的测量膜厚速率；真空泵分别与主腔体和小腔体相连。与现有技术相比，本发明不但可延长晶振片使用寿命，同时方便更换晶振片。

主权项

一种真空镀膜装置，适用于对玻璃基片的真空镀膜，其特征在于：包括主腔体、小腔体、蒸发管道、真空泵、晶振检测仪和设置有线性蒸发源的副腔体，所述主腔体内设置有用于玻璃基片传输的基片传输机构，所述主腔体位于所述副腔体上方并通过一可开闭的挡板与所述副腔体隔开，所述小腔体位于所述主腔体上方并通过一阀门与所述主腔体隔开，所述蒸发管道的入口与所述线性蒸发源相接触，所述蒸发管道的出口穿过所述挡板和主腔体朝向并临近所述阀门；所述晶振测试仪包括晶振片和检测机构，所述晶振片安装在所述小腔体内且位于所述蒸发管道出口的上方，所述检测机构测量晶振片本身的频率变化并计算出接近实际镀膜厚度的测量镀膜厚度和相应的测量膜厚速率，所述检测机构包括与所述晶振片相连的输入单元、与所述输入单元相连的比较处理单元、与所述比较处理单元相连的存储单元，以及与所述比较处理单元输出端相连的命令单元，所述命令单元的输出端与所述挡板相连并用于控制所述挡板的开闭；所述真空泵通过两条真空管道分别与主腔体和小腔体相连，两所述真空管道上均安装有真空闸阀。