| 发明名称 | 光学布置、尤其是等离子体光源或EUV光刻设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及光学组件，尤其是等离子体光源(1′)或EUV光刻系统，包含：壳体(2)，其包围内壳空间(3)；真空生成单元，用于在上述壳体(2)中产生真空；至少一个表面(13)，布置在所述内壳空间(3)中；清洁装置(15)，用于移除沉积在所述表面(13)上的污染物质(14)；以及观察装置(25)，用于观察所述表面(13)，其中，所述观察装置(25)具有能够朝着所述表面(13)取向的观察光学单元(26)。所述清洁装置(15)设计为通过释放CO<sub>2</sub>颗粒(17)形式的CO<sub>2</sub>移除沉积的污染物质(14)。 | ||
| 申请公布号 | CN105723282A | 申请公布日期 | 2016.06.29 |
| 申请号 | CN201480062219.2 | 申请日期 | 2014.08.18 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | M.贝克尔;U.米勒;O.阿普 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I;B24C1/00(2006.01)I;B24C7/00(2006.01)I;B24C11/00(2006.01)I;C01B31/22(2006.01)I;G01N21/88(2006.01)I;G21K1/06(2006.01)I;H01J65/04(2006.01)I;H05G2/00(2006.01)I;G02B27/00(2006.01)I;G01N21/94(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陈钘;张邦帅 |
| 主权项 | 光学布置，尤其是等离子体光源(1′)或EUV光刻设备(1″)，具有壳体(2)，其包围内壳空间(3)，真空生成单元(12)，用于在所述壳体(2)中产生真空，至少一个表面(13)，其布置在所述内壳空间(3)中，以及清洁装置(15)，用于移除沉积在所述表面(13)上的污染物质(14)，所述清洁装置(15)设计为通过释放CO<sub>2</sub>颗粒(17)形式的CO<sub>2</sub>来移除沉积的污染物质(14)，以及监控装置(25)，用于监控所述表面(13)，所述监控装置(25)具有能够被引导至所述表面(13)上的监控光学系统(26)。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||