发明名称 A reactor chamber for chemical vapor deposition
摘要 화학기상장치용 반응챔버가 제공된다. 본 발명의 예시적인 실시예에 따른 화학기상장치용 반응챔버는 내부공간을 갖는 하우징; 상기 내부공간에 배치되고 상부면에 기판이 로딩되는 서셉터; 상기 서셉터의 상부측에 위치하도록 상기 내부공간에 배치되고 공정가스를 상기 기판 측으로 분사하는 샤워헤드; 일정높이를 갖는 중공형으로 구비되고, 상부테두리가 상기 샤워헤드의 둘레부에 위치하여 상기 기판 및 서셉터를 감싸도록 상기 내부공간 내에 배치되는 내부배럴; 및 상기 내부배럴과 동력전달수단을 매개로 연결되는 구동수단;을 포함하고, 상기 내부배럴은 상기 기판 및 서셉터의 교환시 상기 구동수단의 작동을 통해 상기 기판 또는 서셉터가 상기 내부배럴의 내측으로부터 노출되는 개방상태로 변경된다.
申请公布号 KR101634581(B1) 申请公布日期 2016.06.29
申请号 KR20140137876 申请日期 2014.10.13
申请人 한국생산기술연구원 发明人 변철수;한만철
分类号 C23C16/00 主分类号 C23C16/00
代理机构 代理人
主权项
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