发明名称 |
行波电极渐变耦合脊波导InP双异质结光敏晶体管 |
摘要 |
本发明公开一种行波电极渐变耦合脊波导InP双异质结光敏晶体管(DHPT)。采用双异质结结构,包括一InP发射区-InGaAsP基区构成的(e-b)异质结和一InGaAsP基区-InGaAsP集电区构成的(b-c)异质结,代替传统异质结光敏晶体管(HPT)e-b结单异质结结构;一掺杂浓度很高的InGaAsP基区作为DHPT的光吸收层;一InGaAsP基区,InGaAsP集电区和InGaAsP次集电区形成的渐变耦合脊波导结构实现被探测光被侧边探测吸收,代替传统HPT光从顶端垂直入射的方式。光传输方向与载流子传输方向垂直,能分别优化光吸收效率和工作速度。一发射极电极和集电极电极构成的行波电极,可以有效的减少传统电极在传输高频信号时的分布效应,减少寄生电容对高速传输的影响,进一步提高器件的工作速度。 |
申请公布号 |
CN103545399B |
申请公布日期 |
2016.06.29 |
申请号 |
CN201310518342.8 |
申请日期 |
2013.10.28 |
申请人 |
北京工业大学 |
发明人 |
江之韵;谢红云;张良浩;霍文娟;张万荣 |
分类号 |
H01L31/11(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/0304(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/11(2006.01)I |
代理机构 |
北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 |
代理人 |
刘萍 |
主权项 |
一种行波电极渐变耦合脊波导InP双异质结光敏晶体管,其特征在于包括:一InP衬底(1),InP缓冲层(2),InGaAsP次集电区(3),InGaAsP集电区(4),InGaAsP过渡层(5),InGaAsP基区(6),InP发射区(7),InP盖层(8),各层按序号由小到大的顺序依次生长在InP衬底(1)之上;InGaAs欧姆接触层(9)生长InP盖层(8)上,所述InGaAsP基区(6)、InGaAsP集电区(4)和InGaAsP次集电区(3)构成渐变耦合脊波导结构,聚酰亚胺层(10)覆盖在InGaAs接触层(9)和InGaAsP次集电区(3)之上,并且包裹InGaAsP基区、InGaAsP集电区、InGaAsP次集电区构成渐变耦合脊波导的侧面和InGaAsP次集电区、InP缓冲层构成的台面侧面;开出电极窗口,一发射极(11),第一集电极(12)、第二集电极(13)、第三集电极(14)、第四集电极(15)采用溅射的方法制作在InP衬底(1)和聚酰亚胺层(10)上,然后刻蚀出行波电极。 |
地址 |
100124 北京市朝阳区平乐园100号 |