一种OLED蒸镀用掩模板组件制作方法

摘要

本发明提供了一种OLED蒸镀用掩模板组件制作方法，其包括以下步骤：S1掩模支撑层制作步骤、S2掩模层制作步骤、S3掩模组件组装步骤，通过该方法制作的掩模板组件包含至少一组掩模单元，所述掩模单元由掩模层、掩模支撑层两层结构构成，通过合理设置掩模层、掩模支撑层的两层结构，本发明提供的掩模板组件能够具有较高的位置精度，能够较好的满足后续OLED基板表面有机材料的沉积，有效提高OLED产品的质量。

主权项

一种OLED蒸镀用掩模板组件制作方法，其包括以下步骤：S1：掩模支撑层制作步骤，制作表面具有阵列孔图形区的掩模支撑层，所述阵列孔图形区由连续小开口阵列构成；S2：掩模层制作步骤，在制作完成的掩模支撑层一表面涂布或压贴一层有机感光材料，并通过曝光、显影工艺形成掩模层，所述掩模层上设置有若干掩模开口区，所述掩模开口区由通孔阵列形成，所述掩模层与所述掩模支撑层共同构成掩模单元；S3：掩模组件组装步骤，将掩模单元绷紧拉平后按一定的规则固定在掩模框架上，形成掩模板组件；其特征在于，所述掩模板组件包含至少一组掩模单元，所述掩模层贴合的设置在掩模支撑层上表面，所述掩模单元通过掩模支撑层固定在所述掩模框架上；所述掩模支撑层上设置有连续小开口构成的阵列孔图形区；所述掩模支撑层上阵列孔图形区的覆盖范围能够完全覆盖所述掩模层上的掩模开口区，所述掩模层上的掩模开口区与所述掩模支撑层上阵列孔图形区重合部分构成掩模板蒸镀区；在所述掩模板蒸镀区内部，构成所述掩模层掩模开口区的通孔与构成所述掩模支撑层阵列孔图形区的小开口共同形成蒸镀通道。