曝光装置及其维护方法、以及元件制造方法

摘要

本发明有关于一种曝光装置及元件制造方法，一曝光装置，根据液浸法而能高精度地进行曝光处理及测量处理。曝光装置(EX)，在投影光学系统(PL)的像面侧形成液体(LQ)的液浸区域(AR2)，透过投影光学系统(PL)与液浸区域(AR2)的液体(LQ)而使基板(P)曝光，其具备测量装置(60)，用以测量液浸区域(AR2)形成用的液体(LQ)的性质和/或成分。本发明还公开了元件制造方法及曝光装置的维护方法。

主权项

一种液浸曝光装置，用以使基板曝光，其特征在于具备：投影光学系统；基板载台，具有用以保持基板的基板保持具；用以供应液体的供应口；用以回收从该供应口供应的液体的第1回收口；以及嘴构件，具有该供应口与该第1回收口的至少一者；在液浸曝光处理中，是进行从该供应口供应液体的动作与从该第1回收口回收从该供应口供应的液体的动作而于该投影光学系统的像面侧形成液浸区域，且透过形成该液浸区域的该液体将该基板曝光；在与该液浸曝光处理不同的洗净处理中，是进行从该供应口供应具有预定功能的功能液的动作与从该第1回收口回收从该供应口供应的该功能液的动作而于该投影光学系统的像面侧由该功能液形成液浸区域，且使该基板载台相对由该功能液形成的液浸区域移动，洗净与形成该液浸区域的该功能液接触的构件,该功能液与在该液浸曝光处理中从该供应口供应的液体不同；在该洗净处理被洗净的该构件包含该投影光学系统的光学元件、该嘴构件、及该基板载台的至少一者。