一种适合于大幅面运动规划的高精、高速运动测量系统

摘要

本发明公开了一种适合于大幅面运动规划的高精、高速运动测量系统，借助该系统可以实现高达亚纳米级的二维位移测量精度，特别适合于诸如光刻机、光栅刻划机、液晶面板加工机、精密机床等高端设备中运动控制所必须的反馈测量。具体为将不同频率的一维或二维光栅错位搭接、同频错位过渡铺设以实现大幅面铺设，从而实现任意大幅面运动规划所必须的路径控制范围，再配合以多个光栅位移测量探头的电气协调细分以大幅降低单点测量（细分）时间，从而实现任意大幅面、高精度（最高可达亚纳米，且有多种测量精度协调互验）、高速度（单探头所需要的细分量减少，整体速度优于目前光栅尺中探头的探测速度）运动控制所需的反馈测量。

主权项

一种适合于大幅面运动规划的高精、高速运动测量系统，其特征在于：包括高平整度台面、运动块、多块光栅、多组光栅测量探头、协调控制电路、多个光栅道标；其中，光栅和光栅道标均固定于台面之上，光栅测量探头和协调控制电路固定于运动块上，运动块在协调控制电路的驱动下相对于台面移动。