发明名称 高速锗/硅雪崩光电二极管
摘要 本发明提供一种高速锗/硅(Ge/Si)雪崩光电二极管,可包括衬底层、设于所述衬底层上的底部接触层、设于所述底部接触层上的缓冲层、设于所述缓冲层上的电场控制层、设于所述电场控制层上的雪崩层、设于所述雪崩层上的电荷层、设于所述电荷层上的吸收层和设于所述吸收层上的顶部接触层。所述电场控制层可用于控制所述雪崩层中的电场。
申请公布号 CN105720129A 申请公布日期 2016.06.29
申请号 CN201510907071.4 申请日期 2015.12.09
申请人 硅光电科技股份有限公司 发明人 黄梦园;蔡鹏飞;王良波;栗粟;陈旺;洪菁吟;潘栋
分类号 H01L31/107(2006.01)I;H01L31/028(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/107(2006.01)I
代理机构 北京京万通知识产权代理有限公司 11440 代理人 许天易
主权项 一种器件,其特征在于,包括:Ge/Si雪崩光电二极管;所述Ge/Si雪崩光电二极管包括:衬底层;设于衬底上的底部接触层;设于所述底部接触层上的缓冲层;设于所述缓冲层上的电场控制层;设于所述电场控制层上的雪崩层;设于所述雪崩层上的电荷层;设于所述电荷层上的吸收层;和设于所述吸收层上的顶部接触层;其中,所述电场控制层为用于控制所述雪崩层中的电场分布。
地址 开曼群岛大开曼