发明名称 |
高速锗/硅雪崩光电二极管 |
摘要 |
本发明提供一种高速锗/硅(Ge/Si)雪崩光电二极管,可包括衬底层、设于所述衬底层上的底部接触层、设于所述底部接触层上的缓冲层、设于所述缓冲层上的电场控制层、设于所述电场控制层上的雪崩层、设于所述雪崩层上的电荷层、设于所述电荷层上的吸收层和设于所述吸收层上的顶部接触层。所述电场控制层可用于控制所述雪崩层中的电场。 |
申请公布号 |
CN105720129A |
申请公布日期 |
2016.06.29 |
申请号 |
CN201510907071.4 |
申请日期 |
2015.12.09 |
申请人 |
硅光电科技股份有限公司 |
发明人 |
黄梦园;蔡鹏飞;王良波;栗粟;陈旺;洪菁吟;潘栋 |
分类号 |
H01L31/107(2006.01)I;H01L31/028(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/107(2006.01)I |
代理机构 |
北京京万通知识产权代理有限公司 11440 |
代理人 |
许天易 |
主权项 |
一种器件,其特征在于,包括:Ge/Si雪崩光电二极管;所述Ge/Si雪崩光电二极管包括:衬底层;设于衬底上的底部接触层;设于所述底部接触层上的缓冲层;设于所述缓冲层上的电场控制层;设于所述电场控制层上的雪崩层;设于所述雪崩层上的电荷层;设于所述电荷层上的吸收层;和设于所述吸收层上的顶部接触层;其中,所述电场控制层为用于控制所述雪崩层中的电场分布。 |
地址 |
开曼群岛大开曼 |