光刻设备和器件制造方法

摘要

一种光刻设备被提供和配置成将图案化的辐射束投影到衬底（W）上。所述设备包括测量系统，用于提供与衬底上抗蚀剂层（56）的厚度相关的测量数据，和控制器（54），用于控制光刻设备的操作使得将要被投影到衬底上的图案化的辐射束中的辐射强度水平基于测量数据被控制。

主权项

一种光刻设备，配置成将图案化的辐射束投影到衬底上，所述光刻设备包括：测量系统，配置成提供与衬底上的抗蚀剂层的厚度相关的测量数据；和控制器，配置成控制光刻设备的操作以使得将要被投影到衬底上的图案化的辐射束中的辐射强度水平被基于测量数据来控制以使得在衬底的每个位置处由抗蚀剂层接收的辐射的总剂量尽可能接近期望用以形成期望的图案的剂量，其中，所述测量系统包括辐射强度传感器，其配置成通过从所述抗蚀剂层被改变方向返回的图案化的辐射束测量辐射的强度。