一种基于高光谱成像的监控激光清洗进程的方法

摘要

本发明提供了一种基于高光谱成像的监控激光清洗进程的方法，其特征在于包括以下步骤：(1)获得基质及污染物的高光谱数据及图像；(2)采集清洗过程中监测的高光谱数据；(3)处理所获得高光谱数据；(4)处理数据实时反映清洗进程。本发明用于快速、准确地监测激光清洗的效果，有利于激光清洗过程的控制，实现精确的清洗过程。

主权项

一种基于高光谱成像的监控激光清洗进程的方法，其特征在于包括以下步骤：1)将基质和表面待处理物质置于高光谱监测系统中，获取它们的高光谱图像；2)将清洗中的样品同样放在相同条件下的高光谱监测系统中，得到清洗过程中样品的高光谱图像；3)将所得的高光谱数据及图像进行处理；4)利用公式(1)对上述图像进行处理，得到不同波长下反射率的校正比值：$CL\left(\lambda \right)=\frac{RT\left(\lambda \right)-RC\left(\lambda \right)}{RG\left(\lambda \right)-RC\left(\lambda \right)},---\left(1\right)$其中，CL(λ)为某一波长对应的反射率校正比值，RT(λ)、RC(λ)和RG(λ)分别是清洗内区域的发射率、表面待处理物质的反射率和原始基质的反射率，当CL(λ)≥90％时判断该区域内被清洗干净，输出相应的数据。