发明名称 SUBSTRATE LIQUID PROCESSING APPARATUS SUBSTRATE LIQUID PROCESSING METHOD AND STORAGE MEDIUM HAVING SUBSTRATE LIQUID PROCESSING PROGRAM STORED THEREIN
摘要 본 발명은 기판에 대전된 전하가 방전하는 것에 의한 정전 파괴의 발생을 방지하는 것을 목적으로 한다. 본 발명에서는, 기판(2)에 액처리를 실시하기 위한 기판 액처리 장치(1), 기판 액처리 방법 및 기판 액처리 프로그램을 기록한 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체(48)에 있어서, 기판(2)의 회로 형성면을 기판 처리 약액으로 액처리하는 액처리 공정을 행하기 전에, 기판(2)의 회로 형성면과는 반대면을 제전 처리액으로 처리하는 것에 의해 기판(2)에 대전된 전하를 방출시키는 제전 처리 공정을 행하도록 하였다.
申请公布号 KR101633129(B1) 申请公布日期 2016.06.23
申请号 KR20100096443 申请日期 2010.10.04
申请人 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 发明人 다나카 히로시;미나미 데루오미;가와부치 요스케;이토 노리히로;가미무라 후미히로;야부타 다카시;가즈키 고사이;다카시 우노;세키구치 겐지;후지이 야스시
分类号 H01L21/302 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
地址