Innenkammerelement-Temperatursteuerverfahren, kammerinternes Element, Substratanbringtisch und Plasmabearbeitungsvorrichtungsvorrichtung, die selbigen enthält

摘要

Verfahren zur Steuerung der Temperatur eines Fokusrings (5), der mehrere ringförmige Elemente aufweist, die um das Zielsubstrat angeordnet sind, zur Verwendung in einer Plasmabearbeitungsvorrichtung, die das Zielsubstrat (15) mit einem Plasma bearbeitet, wobei das Verfahren aufweist: Bereitstellen jedes ringförmigen Elements des Fokusrings (5) mit einem Leistungszufuhrabschnitt; Erhitzen des Fokusrings (5) durch dahin Zuführen einer elektrischen Leistung über die Leistungszufuhrabschnitte; Messen eines Widerstandswerts oder eines spezifischen Widerstands des Fokusrings (5); und Steuern der elektrischen Leistung basierend auf der Temperatur des Fokusrings (5), die aus dem Widerstandswert oder dem spezifischen Widerstand abgeschätzt wird, sodass ein elektrischer Strom gleichförmig durch den Fokusring (5) fließt, um den Fokusring (5) mit einer bezüglich seiner Ebene gleichförmigen Temperatur zu erhitzen.