| 摘要 |
選択接触還元触媒系系において配置された第1のSCR触媒組成物および第2のSCR触媒組成物を含むSCR触媒系であって、第1のSCR触媒組成物は、第2のSCR触媒組成物より高いN2形成およびより低いN2O形成を促進し、および第2のSCR触媒組成物は、第1のSCR触媒組成物とは異なる組成物を有し、第2のSCR触媒組成物は、第1のSCR触媒組成物より低いN2形成およびより高いN2O形成を促進する系、を記述する。SCR触媒系は、還元剤の存在下で窒素酸化物の還元を触媒するための方法および系において有用である。 |
