发明名称 |
一种小型LED芯片及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种小型LED芯片及其制造方法, LED芯片包括衬底、N型半导体层、发光层、及P型半导体层, LED芯片上形成有贯穿P型半导体层、发光层及部分N型半导体层的通孔,P型半导体层上形成有未覆盖通孔区域的透明导电层,LED芯片上在通孔侧壁、以及通孔旁侧部分透明导电层上形成有电流阻挡层,电流阻挡层上及通孔内形成有与N型半导体层电性连接的N电极,透明导电层上形成有与P型半导体层电性连接的P电极,衬底为图案化衬底,N电极为反射电极。本发明通过电流阻挡层和电极的设置,减小了N电极与N型半导体层的接触面积,能够使N电极下方的部分发光层进行发光,通过反射电极和PSS衬底进行出光,有效提高了小型LED芯片的发光效率。 |
申请公布号 |
CN105702823A |
申请公布日期 |
2016.06.22 |
申请号 |
CN201610221411.2 |
申请日期 |
2016.04.11 |
申请人 |
聚灿光电科技股份有限公司 |
发明人 |
李庆;张广庚;吴红斌;陈立人 |
分类号 |
H01L33/14(2010.01)I;H01L33/20(2010.01)I;H01L33/38(2010.01)I;H01L33/40(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/14(2010.01)I |
代理机构 |
苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 |
代理人 |
杨林洁 |
主权项 |
一种小型LED芯片,所述LED芯片包括衬底、位于衬底上的N型半导体层、发光层、及P型半导体层,其特征在于,所述LED芯片上形成有贯穿P型半导体层、发光层及部分N型半导体层的通孔,所述P型半导体层上形成有未覆盖通孔区域的透明导电层,所述LED芯片上在通孔侧壁、以及通孔旁侧部分透明导电层上形成有电流阻挡层,所述电流阻挡层上及通孔内形成有与N型半导体层电性连接的N电极,透明导电层上形成有与P型半导体层电性连接的P电极,所述衬底为图案化衬底,所述N电极为反射电极。 |
地址 |
215123 江苏省苏州市工业园区新庆路8号 |