发明名称 一种(BiFeO<sub>3</sub>)m/(La<sub>0.7</sub>Sr<sub>0.3</sub>MnO<sub>3</sub>)n多层薄膜的制备方法
摘要 本发明公开了一种(BiFeO<sub>3</sub>)m/(La<sub>0.7</sub>Sr<sub>0.3</sub>MnO<sub>3</sub>)n多铁材料薄膜的制备方法。本发明采用磁控溅射法,将衬底固定,抽真空,通入一定体积流量比的氩气和氧气,将气压调整到一定值,设定衬底温度,开射频源起辉,待机器各方面参数稳定一段时间,打开样片挡板开始沉积薄膜,交替沉积4个周期后,关闭射频源,停止起辉。在STO衬底上所得样品即为[(BiFeO<sub>3</sub>)<sub>20</sub>/(La<sub>0.7</sub>Sr<sub>0.3</sub>MnO<sub>3</sub>)<sub>10</sub>]<sub>4</sub>多层薄膜。本发明的优点:工艺可控性强,易操作,成本低,制得的产物纯度高。本发明所制备的产品在信息存储、自旋电子器件、磁传感器等领域具有广泛的用途。
申请公布号 CN102586747B 申请公布日期 2016.06.22
申请号 CN201210065339.0 申请日期 2012.03.13
申请人 浙江理工大学 发明人 王顺利;朱晖文;李培刚;唐为华
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 浙江英普律师事务所 33238 代理人 陈小良
主权项 一种(BiFeO<sub>3</sub>)m/(La<sub>0.7</sub>Sr<sub>0.3</sub>MnO<sub>3</sub>)n多层薄膜材料的制备方法,其特征在于,包括下述步骤:(1)将已经清洗好的SrTiO<sub>3</sub>为衬底固定在托板上,关好各气阀后抽真空,直至真空度达到1.0×10<sup>‑4</sup>Pa以上,通入氩气和氧气,调节分子泵闸板阀,将气压调整到1‑3Pa;(2)设定衬底温度为700‑750℃,开射频源起辉,溅射功率分别为100‑110W对靶材预溅射5分钟,然后升高射频功率至115‑120W进行溅射;(3)待机器各方面参数稳定后;先在SrTiO<sub>3</sub>衬底上通过溅射、沉积LSMO薄膜;然后用硅片遮住一半的LSMO薄膜区域,再用溅射、沉积BFO薄膜;按上述先沉积LSMO薄膜、再沉积BFO薄膜的交替沉积过程进行4个周期,关闭射频源,停止起辉,在SrTiO<sub>3</sub>衬底上所得样品即为[(BiFeO<sub>3</sub>)<sub>20</sub>/(La<sub>0.7</sub>Sr<sub>0.3</sub>MnO<sub>3</sub>)<sub>10</sub>]<sub>4</sub>多层薄膜材料。
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