| 发明名称 | 成像光学系统、投射曝光设备、微结构部件及其产生方法 | ||
| 摘要 | 提供了一种成像光学系统（7）、包括该成像光学系统的微光刻投射曝光设备、以及采用所述微光刻投射曝光设备产生微结构的部件的方法。所述成像光学系统包括多个镜（M1至M8；M1至M6）。所述多个镜将物平面（5）中的物场（4）成像到像平面（9）中的像场（8）。镜（M6、M7、M8；M4、M5、M6）的至少一个包括供成像光（15）经过的通孔（21）。在所述物平面（5）和所述像平面（9）之间存在至少一个中间像平面（20，23；27）。最接近像平面（9）的中间像平面（23；27）在物场（4）和像场（8）之间的光路中空间上设置于所述光路中的最后镜（M8；M6）和像平面（9）之间。 | ||
| 申请公布号 | CN102819197B | 申请公布日期 | 2016.06.22 |
| 申请号 | CN201210297391.9 | 申请日期 | 2008.10.02 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | 汉斯-于尔根.曼 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B17/06(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 吴艳 |
| 主权项 | 成像光学系统(7)，包括多个镜(M1至M8；M1至M6)，其将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(8)，镜的至少三个(M6、M7、M8；M4、M5、M6)包括供成像光(15)经过的通孔(21)，包括所述通孔(21)的所述镜(M6、M7、M8；M4、M5、M6)被围绕所述通孔(21)来使用，在所述物平面(5)和所述像平面(9)之间存在至少一个中间像平面(20，23；27)，其特征在于，最接近像平面(9)的中间像平面(23；27)在物场(4)和像场(8)之间的光路中空间上设置于所述光路中的最后镜(M8；M6)和像平面(9)之间。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||