发明名称 |
薄膜的制法及共蒸镀用蒸镀材、薄膜、薄膜片及层叠片 |
摘要 |
本发明提供一种透明性及气体遮断性优异的薄膜的制造方法、适合形成该薄膜的共蒸镀用蒸镀材、通过该方法得到的薄膜、具备该薄膜的薄膜片及层叠片。本发明的薄膜的制造方法,其特征在于,使用由第1氧化物构成的升华性蒸镀材和由与该第1氧化物不同种类的第2氧化物构成的升华性蒸镀材,利用通过真空成膜法同时蒸镀的共蒸镀法,在基材上形成由第1氧化物和第2氧化物构成的氧化物薄膜。 |
申请公布号 |
CN102628155B |
申请公布日期 |
2016.06.22 |
申请号 |
CN201210008345.2 |
申请日期 |
2012.01.12 |
申请人 |
三菱综合材料株式会社 |
发明人 |
有泉久美子;吉田勇气;樱井英章 |
分类号 |
C23C14/00(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I;B32B9/04(2006.01)I |
主分类号 |
C23C14/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京德琦知识产权代理有限公司 11018 |
代理人 |
康泉;王珍仙 |
主权项 |
一种薄膜的制造方法,其特征在于,使用由第1氧化物构成的升华性蒸镀材和由与所述第1氧化物不同种类的第2氧化物构成的升华性蒸镀材,利用通过真空成膜法同时蒸镀的共蒸镀法,在基材上形成由所述第1氧化物和所述第2氧化物构成的氧化物薄膜,以所述形成的薄膜的碱度为0.03以上且第1氧化物与第2氧化物的摩尔比率为5~85:95~15的方式组合由所述第1氧化物构成的升华性蒸镀材和由与所述第1氧化物不同种类的第2氧化物构成的升华性蒸镀材,所述形成的薄膜具有柱状晶的一部分崩裂而接近非结晶状态的致密的微细结构,所述升华性蒸镀材的第1氧化物颗粒及第2氧化物颗粒的平均粒径分别为0.1~10μm。 |
地址 |
日本东京 |