| 发明名称 | 基片承载装置和刻蚀设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基片承载装置，包括托盘和盖板，所述托盘用于承载多个基片，所述盖板用于将所述多个基片固定在所述托盘上，其中，所述基片承载装置设置为当多个所述基片设置在所述基片承载装置中时，多个所述基片的上表面高度不同，以使得工艺时腔室内的多个所述基片的上表面处的等离子体浓度相同。本发明还提供一种刻蚀设备，在利用包括本发明所提供的基片承载装置的刻蚀设备进行刻蚀时，多个基片表面处的等离子浓度大致相同，因此，多个基片的上表面受到的等离子体的轰击能量也大致相同，所以刻蚀结束后，不同基片上的图形尺寸基本是相同的。 | ||
| 申请公布号 | CN105702614A | 申请公布日期 | 2016.06.22 |
| 申请号 | CN201410682769.6 | 申请日期 | 2014.11.24 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 贾士亮;吴鑫;栾大为 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 彭瑞欣;张天舒 |
| 主权项 | 一种基片承载装置，包括托盘和盖板，所述托盘用于承载多个基片，所述盖板用于将所述多个基片固定在所述托盘上，其特征在于，所述基片承载装置设置为当多个所述基片设置在所述基片承载装置中时，多个所述基片的上表面高度不同，以使得工艺时腔室内的多个所述基片的上表面处的等离子体浓度相同。 | ||
| 地址 | 100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号 | ||