| 摘要 |
열간 소성 가공을 거쳐 희토류 자석을 제조함에 있어서, 가공 비용을 증가시키지 않고, 제조되는 희토류 자석의 전체 영역에 있어서 배향도가 높고, 잔류 자화가 높은 희토류 자석을 제조할 수 있는 희토류 자석의 제조 방법을 제공한다. 희토류 자석 재료가 되는 분말을 가압 성형하여 성형체 (S) 를 제조하는 단계, 성형체 (S) 에 열간 소성 가공을 실시하여 희토류 자석 (C) 을 제조하는 단계로 이루어지고, 열간 소성 가공은 압출 가공과 업셋 가공의 2 단계의 단계로 이루어지고, 압출 가공에서는 성형체 (S) 를 다이스 (Da) 에 수용하고, 가열 상태의 성형체 (S＇) 를 압출 펀치 (PD) 로 가압하여 두께를 줄이면서 압출하여 판상의 희토류 자석 중간체 (S") 를 제조하고, 업셋 가공에서는 희토류 자석 중간체 (S") 를 두께 방향으로 가압하여 두께를 줄여 희토류 자석 (C) 을 제조한다. |
