| 发明名称 | 石墨薄膜的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明为高热扩散率的石墨薄膜的制造方法，其特征在于：对使用含有70摩尔％以上的PMDA的酸二酐成分与含有70摩尔％以上的ODA的二胺成分所获得的厚度为34μm以上42μm以下且双折射率为0.100以上的聚酰亚胺薄膜、或上述聚酰亚胺薄膜经碳化后而成的碳化薄膜，在2400℃以上的温度下进行热处理。 | ||
| 申请公布号 | CN105683088A | 申请公布日期 | 2016.06.15 |
| 申请号 | CN201480058525.9 | 申请日期 | 2014.11.28 |
| 申请人 | 株式会社钟化 | 发明人 | 小林干明;西川泰司;稻田敬;太田雄介;片山觉嗣;沓水真琴 |
| 分类号 | C01B31/04(2006.01)I | 主分类号 | C01B31/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 陈建全 |
| 主权项 | 一种石墨薄膜的制造方法，其特征在于：对厚度为34μm以上42μm以下并且双折射率为0.100以上0.130以下的聚酰亚胺薄膜、或所述聚酰亚胺薄膜经碳化后而成的碳化薄膜，在2400℃以上的温度下进行热处理。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||