发明名称 NiWP纳米线及其氧化铝模板水热合成方法
摘要 本发明公开NiWP纳米线及其氧化铝模板水热合成方法,将具有微孔的氧化铝模板,在SnCl<sub>2</sub>和PdCl<sub>2</sub>的溶液中预处理后,再将处理后的模板放在NiSO<sub>4</sub>·H<sub>2</sub>O、NaWO<sub>4</sub>·H<sub>2</sub>O、NaH<sub>2</sub>PO<sub>2</sub>·H<sub>2</sub>O和柠檬酸钠为前驱体的混合溶液中进行水热合成,最后将水浴处理后的模板用NaOH水溶液溶解掉。本发明实施费用低、操作简便、无污染,是一种高效简便经济的合成方法,且制备的NiWP纳米线表现出较好的性能。
申请公布号 CN105668532A 申请公布日期 2016.06.15
申请号 CN201610047688.8 申请日期 2016.01.22
申请人 天津大学 发明人 周阔;梁砚琴;杨贤金;崔振铎;朱胜利;李朝阳
分类号 C01B25/08(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I 主分类号 C01B25/08(2006.01)I
代理机构 天津创智天诚知识产权代理事务所(普通合伙) 12214 代理人 王秀奎
主权项 NiWP纳米线,其特征在于,NiWP纳米线具有棒状形貌特征,直径在100—120nm,长度为1.2—1.5um由元素Ni、W和P组成,且表现为非晶态,按照下述步骤进行:步骤1,将氧化铝模板浸泡在SnCl<sub>2</sub>的水溶液中,以使SnCl<sub>2</sub>均匀分散在氧化铝模板中;步骤2,将步骤1中浸泡过SnCl<sub>2</sub>的氧化铝模板浸泡在PdCl<sub>2</sub>的水溶液中,以使PdCl<sub>2</sub>均匀分散在氧化铝模板中;步骤3,将经过步骤1和步骤2处理的氧化铝模板转移至由NiSO<sub>4</sub>·H<sub>2</sub>O、NaWO<sub>4</sub>·H<sub>2</sub>O、NaH<sub>2</sub>PO<sub>2</sub>·H<sub>2</sub>O和柠檬酸钠组成的混合水溶液中进行水热反应,反应温度为70—90摄氏度,反应时间至少2小时,NiSO<sub>4</sub>·H<sub>2</sub>O浓度为10—15g/L、NaWO<sub>4</sub>·H<sub>2</sub>O浓度为30‑50g/L、NaH<sub>2</sub>PO<sub>2</sub>·H<sub>2</sub>O为20—25g/L、柠檬酸钠浓度为40—50g/L;步骤4,将经过步骤3水热反应的氧化铝模板置于氢氧化钠水溶液中,以使氧化铝模板溶解,即得到NiWP纳米线。
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