发明名称 | 偏振性层叠膜及偏振片的制造方法 | ||
摘要 | 本发明涉及一种偏振性层叠膜的制造方法,所述偏振性层叠膜依次具备基材膜、底涂层及偏光镜层,为了提高基材膜与聚乙烯醇系树脂层的密合性而使用的底涂溶液包含选自二醛系交联剂、异氰酸酯系交联剂及金属系交联剂中的至少一种交联剂。根据本发明,在偏振性层叠膜的制造方法中,可以对底涂层赋予即使在向染色溶液、交联溶液中的浸渍时聚乙烯醇系树脂层也不会从基材剥离这样的耐水性。 | ||
申请公布号 | CN103261928B | 申请公布日期 | 2016.06.15 |
申请号 | CN201180059034.2 | 申请日期 | 2011.12.06 |
申请人 | 住友化学株式会社 | 发明人 | 河村真一 |
分类号 | G02B5/30(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/30(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 龚敏 |
主权项 | 一种偏振性层叠膜的制造方法,其中,所述偏振性层叠膜依次具备基材膜、底涂层及偏光镜层,所述方法依次包含:底涂层形成工序,在基材膜的一个面涂布底涂溶液而形成底涂层,聚乙烯醇系树脂层形成工序,在所述底涂层上形成聚乙烯醇系树脂层,得到依次具备所述基材膜、所述底涂层及所述聚乙烯醇系树脂层的层叠膜,拉伸工序,对所述层叠膜进行纵拉伸,以及染色工序,使用二色性色素对所述层叠膜的所述聚乙烯醇系树脂层进行染色而制成偏光镜层;所述底涂溶液包含选自二醛系交联剂、异氰酸酯系交联剂及金属系交联剂中的至少一种交联剂,所述底涂层形成工序中,通过在所述基材膜的一个面涂布所述底涂溶液,并且在干燥温度50~200℃下进行干燥,从而形成所述底涂层。 | ||
地址 | 日本国东京都 |