发明名称 |
在液晶面板的绝缘层上形成图案的方法及膜处理方法 |
摘要 |
本发明公开了一种在液晶面板的绝缘层上形成图案的方法,该方法包括在玻璃基板表面上形成亲水性薄膜;对玻璃基板表面已形成的亲水性薄膜进行化学反应处理,以将亲水性薄膜变为疏水性薄膜;在玻璃基板表面上已形成疏水性薄膜的一侧涂布光刻胶,并进行显影和光刻胶剥离处理,以在玻璃基板上形成图案。通过上述方式,本发明能够增强薄膜与光刻胶的粘附性,取代现有涂布HMDS的方法,从而减少对人员的伤害,且安全有效。 |
申请公布号 |
CN105676505A |
申请公布日期 |
2016.06.15 |
申请号 |
CN201610011903.9 |
申请日期 |
2016.01.07 |
申请人 |
武汉华星光电技术有限公司 |
发明人 |
刘思洋 |
分类号 |
G02F1/1333(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1333(2006.01)I |
代理机构 |
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 |
代理人 |
何青瓦 |
主权项 |
一种在液晶面板的绝缘层上形成图案的方法,其特征在于,包括:在玻璃基板表面上形成亲水性薄膜;对所述玻璃基板表面已形成的亲水性薄膜进行化学反应处理,以将所述亲水性薄膜变为疏水性薄膜;在所述玻璃基板表面上已形成疏水性薄膜的一侧涂布光刻胶,并进行显影和光刻胶剥离处理,以在所述玻璃基板上形成图案。 |
地址 |
430070 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 |