一种透明导电氧化膜玻璃生产方法及镀膜装置

摘要

本发明公开了一种透明导电氧化膜玻璃生产方法及镀膜装置。本发明的生产方法实现了透明导电氧化膜玻璃的在线生产，降低了生产成本；本发明在线透明导电氧化膜玻璃镀膜装置采用多槽镀膜机反应器和单槽镀膜机反应器的排列组合，进行镀膜精细化生产操作，解决镀膜宽板边部与中间由于温差易引起的膜层不均匀现象，获得大面积薄膜高效均匀沉积，其板宽可达3660mm的稳定生产，提高了产品质量。

主权项

一种透明导电氧化膜玻璃的生产方法，其特征在于：所述透明导电氧化膜玻璃从下到上依次为浮法玻璃层、第一阻挡层、第二阻挡层和功能层，其中第一阻挡层为SnSiO_x层，第二阻挡层为SiO₂层，功能层为SnO₂:F层；第一阻挡层的厚度为60‑90nm，第二阻挡层的厚度为25‑30nm，功能层的厚度为500‑700nm，其可见光透射率为79.91‑82.5％，其钢化后电阻变化为±0.2％；该透明导电氧化膜玻璃的制备方法包括如下步骤，在下述步骤中，浮法玻璃层处于锡槽中并被拉引的状态：(1)将三氯单丁基锡、正硅酸四乙酯、亚磷酸三乙酯、氮气及氧气以3‑6:5‑8:0.4‑0.9:5‑15:10‑25的重量份送入蒸发器形成第一阻挡层气相化合物，将该第一阻挡层气相化合物通过化学气相沉积法在680‑700℃的浮法玻璃层上形成厚度为60‑90nm的第一阻挡层，即SnSiO_x层，温度降至660‑680℃；(2)正硅酸四乙酯、亚磷酸三乙酯、氮气、氧气及去离子水2‑5:1.5‑2:7‑20:5‑15:0.5‑0.8的重量份送入蒸发器形成第二阻挡层气相化合物，将该第二阻挡层气相化合物通过化学气相沉积法在步骤(1)所得的660‑680℃的第一阻挡层上形成厚度为25‑30nm的第二阻挡层，即SiO₂层，温度降至640‑670℃；(3)将三氯单丁基锡、三氟乙酸、氧气、去离子水、氮气及甲醇以30‑40:2‑4:15‑20:10‑20：15‑25:2‑10的重量份送入蒸发器形成功能层气相化合物，将该功能层气相化合物通过化学气相沉积法在步骤(2)所得的640‑670℃的第二阻挡层上形成500‑700nm的功能层，即SnO₂:F层，退火后即得表面粗糙度Rq＝40‑47/nm、雾度为12‑15％的所述透明导电氧化膜玻璃。