一种类金刚石碳膜沉积装置

摘要

本发明涉及镀膜技术领域，尤其涉及一种类金刚石碳膜沉积装置，真空室的上盖与真空室的室底相对，真空室的侧壁连接上盖和室底，以形成一腔室；侧壁上开设有一开口；门体与真空室连接，用于盖设于开口；电场平衡机构可拆卸地连接在开口处的侧壁上，用于补全开口，电场平衡机构呈板状，且，电场平衡机构的尺寸大于等于开口的尺寸；阳极靶和阴极靶设置在真空室的内部，且，阳极靶与阴极靶相对设置，阴极靶位于真空室的室底与阳极靶之间；驱动机构穿过室底与阴极靶相连；抽真空装置与真空室连通。本申请通过在真空室侧壁上的开口处增设电场平衡机构，从而能够保证真空室内的电场平衡。

主权项

一种类金刚石碳膜沉积装置，其特征在于，包括真空室、门体、阳极靶、阴极靶、驱动机构、抽真空装置和电场平衡机构；所述真空室的上盖与所述真空室的室底相对，所述真空室的侧壁连接所述上盖和所述室底，以形成一腔室；所述侧壁上开设有一开口；所述门体与所述真空室连接，用于盖设于所述开口；所述电场平衡机构可拆卸地连接在所述开口处的所述侧壁上，用于补全所述开口，其中，所述电场平衡机构呈板状，且，所述电场平衡机构的尺寸大于等于所述开口的尺寸；所述阳极靶和所述阴极靶设置在所述真空室的内部，且，所述阳极靶与所述阴极靶相对设置，所述阴极靶位于所述真空室的室底与所述阳极靶之间；所述驱动机构穿过所述室底与所述阴极靶相连；所述抽真空装置与所述真空室连通。