| 摘要 |
본 발명은 코팅될 표면을 포함하는 기판을 저압 반응 챔버에 공급하는 단계와, 상기 반응 챔버 내에서 처리 주기 동안 플라즈마에 상기 표면을 노출시키는 단계와, 전력 입력을 인가함으로써 안정한 플라즈마 점화를 보장하는 단계를 포함하는 방법에 관한 것이며, 전력 입력은 상기 처리 주기 중 0와트(W)보다 연속적으로 엄격하게 높고, 적어도 하나의 하측 임계 전력과, 상기 하측 임계 전력보다 엄격하게 큰 적어도 하나의 상측 임계 전력을 포함하며, 따라서, 코팅된 표면을 가진 기판을 획득할 수 있다. 본 발명은 저압 플라즈마 프로세스로 기판을 처리하기 위한 장치와, 이와 같이 처리된 기판에 또한 관련된다. |
