发明名称 同面电极光电二极管阵列
摘要 公开了一种同面电极光电二极管阵列。在低电阻率衬底,高电阻率外延类型的外延硅片的顶侧,形成第一导电类型重掺杂区域和第二导电类型掺杂区域,分别为光电二极管的阴极和阳极。该结构包括在阳极和阴极之间形成的沟槽结构,该沟槽结构可由空隙、绝缘材料、传导结构、反射材料和离子注入构成;也可以包括在阳极和阴极下方形成第一导电类型重掺杂区域、绝缘隔离层或带绝缘层的传导结构等。
申请公布号 CN205319156U 申请公布日期 2016.06.15
申请号 CN201521117539.1 申请日期 2015.12.29
申请人 同方威视技术股份有限公司 发明人 张岚;李元景;刘以农;胡海帆;李军
分类号 H01L27/146(2006.01)I 主分类号 H01L27/146(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王波波
主权项 一种同面电极光电二极管阵列,其特征在于,包括多个同面电极光电二极管,每个同面电极光电二极管包括:第一导电型重掺杂半导体衬底;在第一导电型重掺杂半导体衬底上形成的第一导电型轻掺杂半导体层;在所述第一导电型轻掺杂半导体层的上部形成的第二导电型重掺杂半导体区域,其中所述第二导电型重掺杂半导体区域与所述第一导电型轻掺杂半导体层形成PN结二极管,并且第二电极从所述第二导电型重掺杂半导体层在光线入射侧引出;围绕所述第二导电型重掺杂半导体区域的第一导电型重掺杂半导体区域,并且第一电极从所述第一导电型重掺杂半导体区域在光线入射侧引出;以及设置在所述第二导电型重掺杂半导体区域和所述第一导电型重掺杂半导体区域之间的沟槽结构。
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