发明名称 具有垂直存储器部件的单片式三维(3D)集成电路(IC)(3DIC)
摘要 公开了具有垂直存储器部件(64)的单片式三维(3D)集成电路(IC)(3DIC)。具有用于块间布线的紧密间距的垂直单片式层间过孔(MIV)(68)和每个层(62)处用于块存取的复用器(70)的3D存储器交叉开关(66)架构被用来缩短整个导体的长度并且减少阻容(RC)延迟。对这样的长的交叉开关的消除减少了交叉开关的RC延迟并且通常改善性能和速度。此外,对长的水平交叉开关的消除使得导体布线更容易。具有其小的行程长度的MIV可以在不需要转发器的情况下工作(不同于长的交叉开关),并且控制逻辑单元可以被用来基于使用配置存储体。
申请公布号 CN105683864A 申请公布日期 2016.06.15
申请号 CN201480057939.X 申请日期 2014.10.15
申请人 高通股份有限公司 发明人 P·卡迈勒;Y·杜;K·萨马迪
分类号 G06F1/32(2006.01)I;H01L27/06(2006.01)I 主分类号 G06F1/32(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 张扬;王英
主权项 一种三维(3D)集成电路(IC)(3DIC),包括:存储器结构,其包括:多个层,每个层具有存储元;多个单片式层间过孔(MIV),其跨越所述多个层;第一复用器,其被安放在所述多个层之中的第一层中,并且耦合到所述多个层中的所述第一层内的至少相应的存储元;第二复用器,其被安放在所述多个层之中的第二层中,并且耦合到所述多个层中的所述第二层内的至少第二相应的存储元;以及控制逻辑单元,其被配置为,如果有存储元是活动的话,确定哪些存储元是活动的,并且基于这样的确定来重新配置对存储元的使用。
地址 美国加利福尼亚