用于确定样本中的应变分布的方法和系统

摘要

呈现了用来测量样本的一个或多个参数的控制系统。该控制系统包括：输入模块以及处理器模块。该输入模块被配置为接收包括第一数据和第二数据的输入数据，该第一数据包括样本的X射线衍射或高分辨率X射线衍射(XRD)响应数据，该X射线衍射或高分辨率X射线衍射(XRD)响应数据指示样本中的材料分布，第二数据包括样本对入射光的光学响应数据，该光学响应数据至少指示样本的几何形状。该处理器模块被配置为且可操作为处理和分析第一数据和第二数据中的一个用于优化第一数据和第二数据中的另一个，并且利用优化数据来确定样本的所述一个或多个参数，所述一个或多个参数包括样本中的应变分布。

主权项

一种在测量样本的一个或多个参数中使用的控制系统，所述控制系统包括：(a)输入模块，用于接收包括第一数据和第二数据的输入数据，所述第一数据包括所述样本的X射线衍射或高分辨率X射线衍射(XRD)响应数据，所述X射线衍射或所述高分辨率X射线衍射(XRD)响应数据指示所述样本中的材料分布，所述第二数据包括所述样本对入射光的光学响应数据，所述光学响应数据至少指示所述样本的几何形状；(b)处理器模块，被配置为且能够操作为处理和分析所述第一数据和所述第二数据中的一个以便优化所述第一数据和所述第二数据中的另一个，并且利用所述优化的数据来确定所述样本的所述一个或多个参数，所述一个或多个参数包括所述样本中的应变分布。