发明名称 レーザー直接構造化方法
摘要 【課題】 核生成剤を使わずとも、レーザーの照射によって樹脂構造体(resin structure)表面のメッキ対象領域をメッキに適合するように改質することができる改善されたレーザー直接構造化方法を提供する。【解決手段】樹脂構造体表面のメッキ対象領域にレーザーを照射して、格子状配列のトレンチラインを形成する段階を含むレーザー直接構造化方法である。【選択図】なし
申请公布号 JP2016516903(A) 申请公布日期 2016.06.09
申请号 JP20160506217 申请日期 2013.07.26
申请人 エムエスティ− コリア シ−オ−., エルティ−ディ−.MST KOREA Co., Ltd. 发明人 キム、ハン ジョー;ソン、イエオング チオル
分类号 C23C18/20;B23K26/364;B32B15/08 主分类号 C23C18/20
代理机构 代理人
主权项
地址