堆積プロセスを最適化するための方法、堆積システムを設定するための装置、および堆積システム

摘要

電子ビーム誘起またはイオン・ビーム誘起堆積システムによって、好ましくは２０ｎｍ未満の層厚を有する電子伝導層を作成するための堆積手順を最適化するための方法が、ステップ１として、堆積システムの電子ビーム・パラメータまたはイオン・ビーム・パラメータのような最適化されるべき少なくとも１つの堆積固有設定パラメータを選択するステップであって、場合によっては堆積システムの少なくとも１つのさらなる設定パラメータが一定に維持される、ステップと、ステップ２として、第１世代パラメータ値集合を定義するために少なくとも１つの設定パラメータのいくつかのパラメータ値を決定するステップと、ステップ３として、堆積システムによって、第１世代パラメータ値集合の各パラメータ値の層を堆積するステップと、ステップ４として、第１世代パラメータ値集合の各パラメータ値の各層についての電気特性を検出するステップと、ステップ５として、遺伝的アルゴリズムを使用するステップであって、遺伝的アルゴリズムは、予め決定された目標電気特性に対する検出された電気特性の最適化評価を実行し、最適化評価に基づいて、さらなる世代のパラメータ値集合を決定する、ステップと、ステップ６として、目標電気特性が達成されるまで、または最終世代であると予め決定された世代について遺伝的アルゴリズムが終結されるまで、第２世代または場合によってはさらなる世代のパラメータ値を使用する前提のもとで、ステップ３から５を反復するステップとを備える。