| 摘要 |
【課題】基板に対する処理液の塗布状態の均一性を高めることができる液処理方法、液処理装置、及び液処理用記録媒体を提供する。【解決手段】塗布ユニットＵ１は、ウエハＷを回転させる回転保持部２０と、ウエハＷの表面Ｗａ上に処理液Ｒを供給するノズル３２と、ウエハＷに対するノズル３２の位置を制御する制御部６０と、を備える。液処理方法は、ウエハＷを第一回転数ω１にて回転させつつ、ウエハＷの回転中心ＣＬ１から偏心した位置にてウエハＷの表面Ｗａに処理液Ｒの供給を開始し、処理液Ｒの供給位置を回転中心ＣＬ１側に移動させること、処理液Ｒの供給位置が回転中心ＣＬ１に到達した後、第一回転数ω１よりも大きい第二回転数ω２にてウエハＷを回転させることにより、処理液ＲをウエハＷの外周側に塗り広げること、を含む。【選択図】図４ |
