一种液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜及制备方法

摘要

本发明属于液晶用塑料薄膜技术领域，具体公开了一种液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜及其制备方法，按照重量份，该聚碳酸酯薄膜由如下配比的原料制备而成：双酚A型聚碳酸酯100份、纳米二氧化硅15-30份、超细活性硅微粉10-20份、超细改性氧化铝10-20份、硅烷偶联剂1-3份以及润滑剂0.5-1份。本发明产品不仅具有的良好表面耐刮擦性（表面硬度4-7H）、优异的力学强度和透光性（≥93%），而且还具有良好的耐温性（-50℃-120℃）；同时，制得的薄膜表面光滑平整、厚度均匀，特别适合用作超薄型液晶屏的使用。本发明薄膜采用双螺杆挤出机挤出造粒、成型机吹塑成型，制备工艺简单可行，适合工业化生产、推广。

主权项

一种液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜，其特征是：所述液晶用表面耐磨的高强度高透光聚碳酸酯薄膜由如下重量份配比的原料制备而成：双酚A型聚碳酸酯          100份；纳米二氧化硅             15‑30份；超细活性硅微粉           10‑20份；超细改性氧化铝           10‑20份；硅烷偶联剂               1‑3份；润滑剂                   0.5‑1份；所述超细活性硅微粉的制备方法的步骤如下：将硅微粉烘干备用；将环氧基硅烷偶联剂Z‑6040加入到其体积3‑5倍的50‑75v/v%乙醇溶液中，得混合液；在60℃条件下，往混合液中加入烘干后的硅微粉，持续搅拌15min后静置冷却至25℃，然后置于95℃的真空烘箱中干燥、碾筛得超细活性硅微粉；所述50‑75v/v%乙醇溶液的pH=4‑6；所述混合液和烘干后的硅微粉质量比为1：3；所述超细改性氧化铝的粒径为200nm‑2um，所述超细改性氧化铝由氧化铝与丙烯酰氯以质量比4:1的比例在25℃的条件下共混搅拌反应3小时而制得。