| 发明名称 | 一种阵列基板、其制作方法及显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明实施例公开了一种阵列基板、其制作方法及显示装置。该方法包括：利用掩模版和第一光刻胶，在衬底基板上形成与所述掩模版中第一区域的图形一致的第一膜层的图形；形成第一膜层的图形之后，利用同一掩模版和与所述第一光刻胶的感光性质相反的第二光刻胶，在所述衬底基板上形成与所述掩模版中第二区域的图形一致的第二膜层的图形；其中，所述掩模版包含的所述第一区域和所述第二区域的图形互不重叠且光透过性质完全相反。对于不同次构图工艺中各自独立形成的、且互不重叠的第一膜层的图形和第二膜层的图形，可以仅使用同一掩模版实现第一膜层的图形和不同次构图工艺中的第二膜层的图形的制作，减少了所需要的掩模版的数量，降低了生产成本。 | ||
| 申请公布号 | CN105655289A | 申请公布日期 | 2016.06.08 |
| 申请号 | CN201610004858.4 | 申请日期 | 2016.01.04 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 周如;赵娜 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/12(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人 | 黄志华 |
| 主权项 | 一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括：利用掩模版和第一光刻胶，在衬底基板上形成与所述掩模版中第一区域的图形一致的第一膜层的图形；形成所述第一膜层的图形之后，利用同一掩模版和与所述第一光刻胶的感光性质相反的第二光刻胶，在所述衬底基板上形成与所述掩模版中第二区域的图形一致的第二膜层的图形；其中，所述掩模版包含的所述第一区域和所述第二区域的图形互不重叠且光透过性质完全相反。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||