发明名称 |
一种三氧化钼纳米薄片的制备方法 |
摘要 |
本发明公开一种由表面活性剂调节的纳米薄片状三氧化钼的制备方法,该方法通过以下步骤完成:以仲钼酸铵、表面活性剂、硝酸为原料,去离子水、乙醇、三乙胺为混合溶剂,磁力搅拌使其混合均匀,在超声波反应器中用37%的浓硝酸调节pH至2-3,60℃恒温反应30分钟,生成三氧化钼前驱体,然后在马弗炉中500℃焙烧5小时得到纳米薄片。本发明所使用的钼盐、表面活性剂、硝酸等廉价易得,成本较低,且对反应设备要求低,容易操作。同时本发明制得的纳米薄片三氧化钼具有较大的比表面积,具有优异的光催化性能。 |
申请公布号 |
CN105645470A |
申请公布日期 |
2016.06.08 |
申请号 |
CN201410457699.4 |
申请日期 |
2014.09.09 |
申请人 |
天津工业大学 |
发明人 |
王立敏;张永方;孙洪明;王澳轩;储德清;马忠超 |
分类号 |
C01G39/02(2006.01)I;B82Y40/00(2011.01)I;B82Y30/00(2011.01)I |
主分类号 |
C01G39/02(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种三氧化钼纳米薄片的制备方法,其包括如下步骤:(1)称取一定量的仲钼酸铵及表面活性剂于烧杯中,加入一定量的溶剂;(2)将上述溶液在室温下充分磁力搅拌一定时间;(3)将烧杯移至超声波清洗器,恒温下缓慢加入37%的浓硝酸溶液,调至pH至2‑3;(4)继续超声30min后离心分离,用蒸馏水和乙醇各洗涤三次,置于60℃烘箱中干燥;(5)将干燥后的产物置于马弗炉中,500℃条件下焙烧5h。 |
地址 |
300160 天津市河东区成林道63号 |