| 发明名称 | 一种阵列基板及有机电致发光显示装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种阵列基板及有机电致发光显示装置，属于显示技术领域，其可解决现有的栅线、数据线金属具有高的反射率，导致显示装置易产生反射影像的问题。本实用新型的阵列基板包括衬底以及形成于衬底同一侧上的折射率不同的第一介质层和第二介质层，第一介质层与第二介质层的折射率之比为0.4-0.6，其中第一介质层比第二介质层更靠近出光面。低折射率的第一介质层与高折射率的第二介质层实现对外界进入的光线进行相干相消的作用，降低外界进入的光线的反射，从而提高显示的对比度，提高显示质量。本实用新型的阵列基板适用于各种显示装置，尤其适用于底发光型有机电致发光显示装置。 | ||
| 申请公布号 | CN205303465U | 申请公布日期 | 2016.06.08 |
| 申请号 | CN201620032119.1 | 申请日期 | 2016.01.13 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 张锋;刘静 |
| 分类号 | H01L27/12(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/12(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人 | 柴亮;张天舒 |
| 主权项 | 一种阵列基板，其特征在于，包括衬底，以及形成于衬底同一侧上的第一介质层和第二介质层，所述第一介质层与第二介质层的折射率之比为0.4‑0.6，其中第一介质层比第二介质层更靠近出光面。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||