| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Halterung mindestens eines Substrates zur Verwendung in einer Prozesskammer eines CVD- oder PVD-Reaktors, mit einer flachen Oberseite, auf der sich zumindest ein Lagerplatz (2) für das mindestens eine Substrat (3) befindet, wobei eine der Umrisskontur des Substrates (3) entsprechende Umrisskonturlinie (7) von Positionierflanken (5, 5') zur lagefixierenden Anlage jeweils eines Abschnitts eines Randes (8) des Substrates (3) flankiert ist, und mit von einer von der Umrisskonturlinie (7) umgebenen Lagerplatzbodenfläche (14) des Lagerplatzes (2) abragenden Tragvorsprüngen (9), die gegenüber der Lagerplatzbodenfläche (14) erhabene Anlageflächen (15) aufweisen, auf die das Substrat (3) auflegbar ist. Um die Temperaturhomogenität der Oberflächentemperatur des Substrates zu verbessern, schlägt die Erfindung vor, dass die Tragvorsprünge (9) einer Vertiefung (20) der Lagerplatzbodenfläche (14) entspringen. |
