发明名称 パターン形成用組成物及びパターン形成方法
摘要 本発明は、下記式(I)で表されるブロック及び下記式(II)で表されるブロックを含むブロック共重合体を含有するパターン形成用組成物である。下記式(I)及び(II)中、R1及びR3は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、フッ素原子又はトリフルオロメチル基である。R2は、1価の有機基である。R4は、炭素数1〜5の(1+b)価の炭化水素基である。R5は、ヘテロ原子を有する1価の基である。m及びnは、それぞれ独立して、10〜5,000の整数である。aは、0〜5の整数である。bは、1〜3の整数である。
申请公布号 JPWO2014003023(A1) 申请公布日期 2016.06.02
申请号 JP20140522649 申请日期 2013.06.25
申请人 JSR株式会社 发明人 永井 智樹;峯岸 信也;曽根 卓男;浪江 祐司
分类号 H01L21/027;B82Y30/00;B82Y40/00;C08F297/02;C08L53/00;G03F7/40 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人
主权项
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