| 摘要 |
Verfahren zur Herstellung eines niedrigemittierenden Schichtsystems, umfassend die Schritte des Ausbildens zumindest einer niedrigemittierenden metallischen Schicht, welche transparent ist im sichtbaren Spektralbereich, auf mindestens einer Seite des Substrats mittels Abscheidung und nachfolgendes Kurzzeittempern mindestens einer abgeschiedenen niedrigemittierenden metallischen Schicht mittels elektromagnetischer Strahlung unter Vermeidung einer sofortigen Aufheizung des Substrats, dadurch gekennzeichnet, dass die elektromagnetische Strahlung durch eine Blitzlampenanordnung, welche mehrere Blitzlampen aufweist, durch mindestens einen Blitzimpuls erfolgt, wobei die Dauer der Blitzpulse im Bereich zwischen 0,05 bis 20 ms eingestellt wird. |
