发明名称 |
一种掩膜板及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种掩膜板,包括基板,所述基板上包括不曝光区域和部分曝光区域;其中,所述基板的不曝光区域上至少形成有不透光材料层;所述基板的部分曝光区域上形成有部分透光材料层;所述部分曝光区域中的部分透光材料层两端部分的厚度大于中间部分的厚度,且所述部分曝光区域中的部分透光材料层与不曝光区域中的不透光材料层相连。本发明还公开了一种掩膜板的制造方法,能随意调整过孔的大小,尤其是能制造出较小尺寸的过孔。 |
申请公布号 |
CN104076599B |
申请公布日期 |
2016.06.01 |
申请号 |
CN201310100101.1 |
申请日期 |
2013.03.26 |
申请人 |
北京京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
李田生;刘保力;谢振宇;郭建 |
分类号 |
G03F1/54(2012.01)I;G03F1/58(2012.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F1/54(2012.01)I |
代理机构 |
北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 |
代理人 |
张颖玲;程立民 |
主权项 |
一种掩膜板,包括基板,所述基板上包括不曝光区域和部分曝光区域;其特征在于,所述基板的不曝光区域上至少形成有不透光材料层;所述基板的部分曝光区域上形成有部分透光材料层;其中,所述部分曝光区域中的部分透光材料层两端部分的厚度大于中间部分的厚度,且所述部分曝光区域中的部分透光材料层与不曝光区域中的不透光材料层相连;所述部分透光材料层包括:第一部分透光材料层和第二部分透光材料层;其中,所述第一部分透光材料层形成于所述不曝光区域上、以及形成于所述部分曝光区域的两端部分,且形成于所述部分曝光区域的两端部分上的所述第一部分透光材料层、与形成于所述不曝光区域上的所述第一部分透光材料层连接;所述第二部分透光材料层形成于所述第一部分透光材料层上、以及形成于未覆盖有所述第一部分透光材料层的部分曝光区域上;或者,所述第一部分透光材料层形成于部分曝光区域上,且所述第一部分透光材料层与不透光材料层连接;所述第二部分透光材料层形成于所述部分曝光区域的两端部分,且所述第二部分透光材料层与所述不透光材料层连接。 |
地址 |
100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号 |