发明名称 一种用于拼接轮廓图画的陶瓷板及配方工艺
摘要 一种用于拼接轮廓图画的陶瓷板及配方工艺,拼接轮廓图画的陶瓷板由坯体层和釉面层构成,坯体层分为正面和粘接面,正面为平面而粘接面为有凹槽的凹凸面,坯体层的规格包括800mm×800mm和600mm×600mm两种,厚度为10mm,釉面层分为釉面底层、色彩层和釉面面层,釉面底层均匀覆盖在坯体层的正面,色彩层覆盖在釉面底层的上面,釉面面层覆盖在色彩层上面,釉面层的厚度至少为0.3mm;配方包括坯体层配方、釉面底层配方和釉面面层配方,工艺流程中的干压成型压力为280MPa,干燥温度为120℃~312℃,干燥周期为39min,烧成温度为上温1194℃,下温1191℃,烧成周期为48.2min。
申请公布号 CN105622057A 申请公布日期 2016.06.01
申请号 CN201610132364.4 申请日期 2016.03.10
申请人 万利(中国)有限公司 发明人 程石明;任富国;李利方
分类号 C04B33/13(2006.01)I;C04B41/89(2006.01)I;C03C8/00(2006.01)I 主分类号 C04B33/13(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种用于拼接轮廓图画的陶瓷板及配方工艺,其特征是:拼接轮廓图画的陶瓷板由坯体层和釉面层构成,坯体层分为正面和粘接面,正面为平面而粘接面为有凹槽的凹凸面,坯体层的规格包括800mm×800mm和600mm×600mm两种,厚度为10mm,釉面层分为釉面底层、色彩层和釉面面层,釉面底层均匀覆盖在坯体层的正面,色彩层覆盖在釉面底层的上面,釉面面层覆盖在色彩层上面,釉面层的厚度至少为0.3 mm;配方包括坯体层配方、釉面底层配方和釉面面层配方,工艺流程中的干压成型压力为280MPa,干燥温度为120℃~312℃,干燥周期为39min,烧成温度为上温1194℃,下温1191℃,烧成周期为48.2min。
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