发明名称 |
一种电磁屏蔽用软磁合金及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种电磁屏蔽用软磁合金及其制备方法,属于电磁复合材料技术领域。该合金的表达式为:M<sub>a</sub>Z<sub>b</sub>T<sub>c</sub>Si<sub>d</sub>;其中,表达式中M为Fe、Co、Ni中的至少一种,Z为P、N、B、C、O、As中的至少一种,T为Sn、Sb、Pb、Al、Bi、Ga、Zr、Ti、Ta、Hf、Nb、V、W、Mo、Mn、Cr、Y中的至少一种,其余为少量不可避免的杂质;所述表达式中a、b、c和d分别表示各对应组分的原子百分比含量(原子%),且满足:25≤a≤70,5≤b≤70,0≤c≤10,0<d≤20,且a+b+c+d=100。该合金具有优良的导磁性、极低的磁损耗以及良好的韧性,特别适用于高频下的电磁屏蔽。 |
申请公布号 |
CN105624588A |
申请公布日期 |
2016.06.01 |
申请号 |
CN201511022923.8 |
申请日期 |
2015.12.30 |
申请人 |
安泰科技股份有限公司 |
发明人 |
周少雄;董帮少;张广强;李宗臻;高慧;崔乃日 |
分类号 |
C22C45/02(2006.01)I;C22C45/04(2006.01)I;C22C45/00(2006.01)I |
主分类号 |
C22C45/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 |
代理人 |
刘春成;荣红颖 |
主权项 |
一种电磁屏蔽用软磁合金,其特征在于,该合金的表达式为:M<sub>a</sub>Z<sub>b</sub>T<sub>c</sub>Si<sub>d</sub>;其中,所述表达式中M为Fe、Co、Ni中的至少一种,Z为P、N、B、C、O、As中的至少一种,T为Sn、Sb、Pb、Al、Bi、Ga、Zr、Ti、Ta、Hf、Nb、V、W、Mo、Mn、Cr、Y中的至少一种,其余为少量不可避免的杂质;所述表达式中a、b、c和d分别表示各对应组分的原子百分比含量(原子%),且满足以下条件:25≤a≤70,5≤b≤70,0≤c≤10,0<d≤20,且a+b+c+d=100。 |
地址 |
100081 北京市海淀区学院南路76号 |