发明名称 电镀装置及电镀方法
摘要 本发明提供一种电镀装置及电镀方法,对特征及处理条件不同的多个基板,能够抑制因终端效应的影响引起的面内均匀性的降低。本发明的电镀装置具备:阳极支架,该阳极支架构成为保持阳极;基板支架,该基板支架构成为与阳极支架相对配置,且保持基板;阳极罩,该阳极罩设置于阳极支架的前表面,且具有使在阳极与基板之间流动的电流通过的第1开口。阳极罩构成为能够调节第1开口的直径。在电镀第1基板时,调节第1开口的直径为第1直径。在电镀第2基板时,调节第1开口的直径为比第1直径小的第2直径。
申请公布号 CN105624767A 申请公布日期 2016.06.01
申请号 CN201510612420.X 申请日期 2015.09.23
申请人 株式会社荏原制作所 发明人 藤方淳平;下山正;中川洋一;向山佳孝;南吉夫
分类号 C25D17/00(2006.01)I;C25D7/12(2006.01)I 主分类号 C25D17/00(2006.01)I
代理机构 上海市华诚律师事务所 31210 代理人 梅高强;张丽颖
主权项 一种电镀装置,其特征在于,具备:阳极支架,该阳极支架构成为保持阳极;基板支架,该基板支架构成为与所述阳极支架相对配置,且保持基板;阳极罩,该阳极罩一体地安装于所述阳极支架,且具有使在所述阳极与所述基板之间流动的电流通过的第1开口;以及调整板,该调整板设置于所述阳极罩和所述基板支架之间,且具有使在所述阳极与所述基板之间流动的电流通过的第2开口,所述阳极罩具有调节所述第1开口的直径的第1调节机构。
地址 日本国东京都大田区羽田旭町11番1号