发明名称 铜合金箔
摘要 本发明的课题在于提供一种适于二次电池的负极集电体、FCCL、电磁波屏蔽体等用途的铜合金箔,本发明涉及一种铜合金箔,其含有合计0.01~0.50质量%的Ag、Cr、Fe、In、Ni、P、Si、Sn、Te、Ti、Zn及Zr中的一种以上且剩余部分由Cu及杂质构成,具有80%IACS以上的导电率,于300℃加热30分钟后维持300MPa以上的拉伸强度。
申请公布号 CN105637106A 申请公布日期 2016.06.01
申请号 CN201480051572.0 申请日期 2014.09.19
申请人 JX金属株式会社 发明人 波多野隆绍
分类号 C22C9/00(2006.01)I;C22C9/02(2006.01)I;C22C9/04(2006.01)I;C22C9/06(2006.01)I;C22C9/10(2006.01)I;H01M4/66(2006.01)I;H05K1/09(2006.01)I;H05K9/00(2006.01)I;C22F1/00(2006.01)I;C22F1/08(2006.01)I 主分类号 C22C9/00(2006.01)I
代理机构 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人 程伟
主权项 一种铜合金箔,其含有合计0.01~0.50质量%的Ag、Cr、Fe、In、Ni、P、Si、Sn、Te、Ti、Zn及Zr中的一种以上且剩余部分由Cu及杂质构成,具有80%IACS以上的导电率,于300℃加热30分钟后维持300 MPa以上的拉伸强度,下式中所示的A值为0.5以上,A=2X<sub>(111)</sub>+X<sub>(220)</sub>-X<sub>(200)</sub>X<sub>(hkl)</sub>=I<sub>(hkl)</sub>/I<sub>0(hkl)</sub>其中,I<sub>(hkl)</sub>及I<sub>0(hkl)</sub>是分别使用X射线绕射法对压延面及铜粉所求出的(hkl)面的绕射积分强度。
地址 日本东京都