| 发明名称 | 紫外线透过性基板的清洗装置以及清洗方法 | ||
| 摘要 | 实施方式的紫外线透过性基板的清洗装置具有：臭氧水供给部，其向基板的清洗面供给臭氧水；以及紫外线照射部，其在向所述基板的清洗面供给臭氧水的状态下，向所述基板的清洗面的相反侧的面照射包含250～260nm的波长的紫外线。 | ||
| 申请公布号 | CN105637619A | 申请公布日期 | 2016.06.01 |
| 申请号 | CN201480056479.9 | 申请日期 | 2014.11.19 |
| 申请人 | 野村微科学股份有限公司 | 发明人 | 自在丸隆行 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I;B08B3/08(2006.01)I;B08B3/10(2006.01)I;B08B7/00(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 刘凤岭;陈建全 |
| 主权项 | 一种紫外线透过性基板的清洗装置，其特征在于，所述紫外线透过性基板的清洗装置具有：臭氧水供给部，其向所述基板的清洗面供给臭氧水；以及紫外线照射部，其在向所述基板的清洗面供给臭氧水的状态下，向所述基板的清洗面的相反侧的面照射包含250～260nm的波长的紫外线。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||